Спомощью нестационарной спектроскопии глубоких уровней проведены исследования электронных ловушек в слоях низкотемпературного GaAs толщиной~40 нм, содержащих наноразмерные кластеры As-Sb. Проведение измерений при различных напряжениях смещения и небольших величинах заполняющего импульса позв...
Спомощью нестационарной спектроскопии глубоких уровней проведены исследования электронных ловушек в слоях низкотемпературного GaAs толщиной~40 нм, содержащих наноразмерные кластеры As-Sb. Проведение измерений при различных напряжениях смещения и небольших величинах заполняющего импульса позволило выявить две группы ловушек T1 иT2 с заметно различающимися скоростями термической эмиссии электронов. Показано, что плотность ловушек T2 (энергия активации 0.56±0.04 эВ, сечение захвата электронов 2·10-13-10-12 см2) составляет~2·1012 см-2, тогда как плотность ловушекT1 (энергия активации 0.44±0.02 эВ, сечение захвата электронов 2·10-14-10-13 см2)--- на порядок ниже. Предполагается, что в соответствии с существованием двух групп кластеров, наблюдавшихся в исследуемых слоях, ловушкиT2 связаны с кластерами с диаметром 4-7 нм, тогда как ловушки T1--- с группой крупных кластеров с диаметром до~20 нм.
Брунков П.Н., Гуткин А.А., Чалдышев В.В., Берт Н.Н., Конников С.Г., Преображенский В.В., Путято М.А., Семягин Б.Р. Ловушки для электронов втонких слоях низкотемпературного арсенида галлия снаноразмерными кластерами As-Sb // ФТП, 2005, том 39, выпуск 9, Стр. 1049