Изучалось влияние отжига при высоких температурах и высоких гидростатических давлениях на фотолюминесценцию сильно легированных слоев GaAs : Be, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках GaAs. Вспектрах слоев с концентрацией атомов бериллия более 5· 1019 cм-3 после обрабо...
Изучалось влияние отжига при высоких температурах и высоких гидростатических давлениях на фотолюминесценцию сильно легированных слоев GaAs : Be, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках GaAs. Вспектрах слоев с концентрацией атомов бериллия более 5· 1019 cм-3 после обработки обнаружено \glqq синее\grqq смещение полосы краевой люминесценции и возрастание относительной интенсивности плеча, лежащего на высокоэнергетическом крыле полосы краевой фотолюминесценции. Вэтих же слоях наблюдалось концентрационное уменьшение параметра кристаллической решетки GaAs, отличное от закона Вегарда. Наблюдаемые эффекты объяснены образованием включений бериллия при высоких уровнях легирования GaAs. Из-за разности коэффициентов сжимаемости и термического расширения GaAs, с одной стороны, и включений бериллия, с другой стороны, обработка при высоких температурах и высоких давлениях приводит к образованию структурных дефектов и, как следствие, к возрастанию вероятности непрямых в k-пространстве излучательных переходов.
Шамирзаев Т.С., Журавлев К.С., Bak-Misiuk J., Misiuk A., Domagala J.Z., Adamczewska J. Трансформация спектров фотолюминесценции слоев GaAs, сильно легированных бериллием, после гидростатического сдавливания // ФТП, 2004, том 38, выпуск 3, Стр. 289