Проведено исследование электронных ловушек в арсениде галлия, выращенном методом молекулярно-лучевой эпитаксии при температуре 200-300oC (LT-GaAs). Для этого использовалась емкостная спектроскопия глубоких уровней в барьерах Шоттки на n-GaAs, область объемного заряда которых содержала встроенный ...
Проведено исследование электронных ловушек в арсениде галлия, выращенном методом молекулярно-лучевой эпитаксии при температуре 200-300oC (LT-GaAs). Для этого использовалась емкостная спектроскопия глубоких уровней в барьерах Шоттки на n-GaAs, область объемного заряда которых содержала встроенный слой LT-GaAs толщиной ~0.1 мкм. Размер кластеров мышьяка, образующихся в LT-GaAs в результате отжига при 580oC, варьировался за счет изменения температуры роста. Обнаружено, что в слоях LT-GaAs, выращенных при 200oC и содержащих кластеры мышьяка диаметром 6-8 нм, появляются два новых типа электронных ловушек с энергиями активации термической эмиссии электронов0.47 и0.59 эВ и концентрацией ~1017 см-3, что сравнимо с концентрацией кластеров мышьяка, определенной с помощью просвечивающей электронной микроскопии. Вслоях LT-GaAs, выращенных при 300oC, в которых кластеры мышьяка не наблюдались, обнаружены ловушки с энергией активации 0.61 эВ. Обсуждается связь этих электронных уровней с системой кластеровAs и точечных дефектов в LT-GaAs.
Брунков П.Н., Гуткин А.А., Моисеенко А.К., Мусихин Ю.Г., Чалдышев В.В., Черкашин Н.Н., Конников С.Г., Преображенский В.В., Путято М.А., Семягин Б.Р. Емкостные исследования электронных ловушек внизкотемпературном арсениде галлия // ФТП, 2004, том 38, выпуск 4, Стр. 401