Проведены исследования фотолюминесцентных свойств двух видов гетероструктур с квантово-размерными слоями InGaAsN/GaAs, выращенных методом молекулярно-пучковой эпитаксии: 1)традиционные квантовые ямы InGaAsN в GaAs и 2)гетероструктуры с активной областью, состоящей из короткопериодной сверхрешетки...
Проведены исследования фотолюминесцентных свойств двух видов гетероструктур с квантово-размерными слоями InGaAsN/GaAs, выращенных методом молекулярно-пучковой эпитаксии: 1)традиционные квантовые ямы InGaAsN в GaAs и 2)гетероструктуры с активной областью, состоящей из короткопериодной сверхрешетки GaAsN/InGaAsN, в центр которой помещена квантовая яма InGaAsN со вставкой InAs субмонослойной толщины. Исследованные гетероструктуры демонстрируют излучение в диапазоне длин волн от~1.3 до~1.55 мкм при комнатной температуре. Показано, что для получения излучения с длиной волны более1.5 мкм в гетероструктурах второго типа требуется меньшая средняя концентрация азота и индия, чем в традиционной квантовой яме, что позволяет существенно уменьшить эффекты, связанные с распадом твердого раствора InGaAsN, и значительно увеличить излучательную эффективность квантовых ям InGaAsN.
Крыжановская Н.В., Егоров А.Ю., Мамутин В.В., Поляков Н.К., Цацульников А.Ф., Ковш А.Р., Леденцов Н.Н., Устинов В.М., Бимберг Д. Оптические свойства гетероструктур сквантово-размерными слоями InGaAsN наподложках GaAs, излучающих вобласти 1.3-1.55 мкм // ФТП, 2005, том 39, выпуск 6, Стр. 735