Сизов Д.С., Максимов М.В., Цацульников А.Ф., Черкашин Н.А., Крыжановская Н.В., Жуков А.Б., Малеев Н.А., Михрин С.С., Васильев А.П., Селин Р., Устинов В.М., Леденцов Н.Н., Бимберг Д., Алферов Ж.И.
- Журнал "Физика и Техника Полупроводников" , 2002
Методом фотолюминесценции и электронной микроскопии на просвет исследованы структуры с квантовыми точками In(Ga)As в матрице GaAs, полученные методом молекулярно-пучковой эпитаксии. Структуры были подвергнуты технологии in-situ селективного термического удаления дефектных областей. На основе рез...
Методом фотолюминесценции и электронной микроскопии на просвет исследованы структуры с квантовыми точками In(Ga)As в матрице GaAs, полученные методом молекулярно-пучковой эпитаксии. Структуры были подвергнуты технологии in-situ селективного термического удаления дефектных областей. На основе результатов анализа люминесцентных свойств предложен метод оценки кристаллографического совершенства структур при помощи измерения интенсивности фотолюминесценции матрицы GaAs при высоких температурах измерения (до 400 K). Исследованы методики удаления дефектов с применением как однократного селективного удаления дефектных островков InAs при 600oC, так и двухстадийной методики, дополнительно включающей в себя селективное заращивание тонким слоем AlAs и высокотемпературный (650-700oC) отжиг. Найдены оптимальные режимы процесса, позволяющие получать структуры со сравнительно малым количеством дефектов без значительного уменьшения плотности когерентных квантовых точек.
Сизов Д.С., Максимов М.В., Цацульников А.Ф., Черкашин Н.А., Крыжановская Н.В., Жуков А.Б., Малеев Н.А., Михрин С.С., Васильев А.П., Селин Р., Устинов В.М., Леденцов Н.Н., Бимберг Д., Алферов Ж.И. Влияние условий отжига на испарение дефектных областей вструктурах сквантовыми точками InGaAs вматрице GaAs // ФТП, 2002, том 36, выпуск 9, Стр. 1097