Выращенные методом молекулярно-лучевой эпитаксии GaAs/AlGaAs-гетероструктуры с одиночными квантовыми ямами вблизи поверхности, антимодулированно легированныеSi, обработаны в водородной плазме при260oC и исследованы методами низкотемпературной фотолюминесценции, возбуждения фотолюминесценции и фот...
Выращенные методом молекулярно-лучевой эпитаксии GaAs/AlGaAs-гетероструктуры с одиночными квантовыми ямами вблизи поверхности, антимодулированно легированныеSi, обработаны в водородной плазме при260oC и исследованы методами низкотемпературной фотолюминесценции, возбуждения фотолюминесценции и фотоотражения. Обнаружено гашение экситонной люминесценции из квантовой ямы при возбуждении ниже ширины запрещенной зоны AlGaAs вследствие усиления электрического поля в структуре. Эффект связан с откреплением уровня Ферми от середины запрещенной зоны специально не легированного верхнего слоя GaAs (p-типа) в результате пассивации водородом поверхностных состояний при отсутствии нейтрализации мелких примесей в слоях структуры (из-за распада комплексов с водородом в условиях освещения и наличия сильных электрических полей).
Бумай Ю.А., Гобш Г., Гольдхан Р., Штайн Н., Голомбек А., Наков В., Ченг Т.С. Фотолюминесценция антимодулированно легированных GaAs/AlGaAs-структур содиночными квантовыми ямами, обработанных вводородной плазме // ФТП, 2002, том 36, выпуск 2, Стр. 211