В диапазоне 24 GHz для интервала температур 293-333 K выполнены измерения коэффициента отражения СВЧ-излучения от плоского слоя магнитной жидкости, намагниченного полем 11.5 kOe; объемная концентрация магнитной фазы (магнетит) составляла 15 vol%. В указанной области динамическая восприимчивость наночастиц имеет сильную дисперсию (ферромагнитный резонанс). Для интерпретации эксперимента использована теория высокочастотного намагничивания ансамбля невзаимодействующих изотропных суперпарамагнитных частиц. Найдено, что эта простая модель позволяет удовлетворительным образом описать температурную и частотную зависимости коэффициента отражения. PACS: 75.50.Mm
Усанов Д.А., Скрипаль Ал.В., Скрипаль Ан.В., Постельга А.Э., Райхер Ю.Л., Степанов В.И. Температурная зависимость коэффициента отражения микроволнового излучения от слоя магнитной жидкости // ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 11, Стр. 126

Представлены результаты численного моделирования оптических свойств сферических наноструктур, состоящих из диэлектрического ядра с поглощением (усилением) и металлической оболочки в условиях плазмонного резонанса. Показано, что уменьшение поглощения в ядре приводит к увеличению сечений поглощения и рассеяния наноструктуры в спектральной области плазмонного резонанса. При наличии в ядре усиления возникает дополнительный резонанс, сопровождающийся изменением характера зависимости сечений поглощения и рассеяния от коэффициента усиления. Рассмотрены условия возникновения такого резонанса. PACS: 78.67.-n
Сидоров А.И. Инверсия поглощения и рассеяния при плазмонном резонансе в наночастицах с металлической оболочкой // ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 10, Стр. 136

Представлены результаты экспериментального исследования инициирования разряда с полым катодом в плазменном источнике электронов. Инициирование осуществлялось за счет потока ионов из ускоряющего промежутка в разрядную область. Источником ионного потока был высоковольтный тлеющий разряд, возникающий в ускоряющем промежутке при давлении более 2 Pa и напряжении не менее 2 kV. Показано, что увеличение коэффициента ионно-электронной эмиссии катода, достигаемой выбором пары газ-металл, снижает минимальное пороговое значение ионного тока, необходимое для зажигания разряда при фиксированном разрядном напряжении. PACS: 52.50.Dg
Жирков И.С., Бурдовицин В.А., Окс Е.М., Осипов И.В. Инициирование разряда в плазменном источнике электронов с полым катодом // ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 10, Стр. 128

Предложена и реализована экспериментально схема реактора для синтеза углеродных наноструктур с использованием водорода, активированного диффузией через раскаленную металлическую перегородку. Приведены некоторые результаты по синтезу многослойных углеродных нанотрубок и наностержней в описанном реакторе. PACS: 81.07.-b
Апресян Л.А., Власов Д.В., Власова Т.В., Конов В.И., Крикунов Г.А., Климанов А.А. Реактор с активированным водородом для синтеза углеродных нанотрубок // ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 9, Стр. 140

Методом фотоэлектронной спектроскопии остовных уровней с использованием синхротронного излучения изучено взаимодействие атомов железа с окиленной поверхностью Si(100)2x1 при комнатной температуре в области покрытий от субмонослойных до четырех монослоев. С помощью компьютерного моделирования спектров Si 2p-остовных электронов выявлен эффект проникновения атомов Fe под окисный слой кремния, который наблюдается даже при комнатной температуре. Показано, что этот процесс сопровождается исчезновением интерфейсных фаз кремния, существовавших на границе SiOx/Si, и приводит к появлению более сложной тройной фазы с участием атомов Fe, O и Si, а также к формированию в области межфазовой границы твердого раствора Fe-Si. PACS: 68.35.Fx
Гомоюнова М.В., Малыгин Д.Е., Пронин И.И. Взаимодействие атомов железа с поверхностью окисленного кремния // ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 9, Стр. 136

Предпринята попытка непосредственного измерения плотности плазмы, образующейся в электрическом разряде в жидкой среде. Впервые в исследованиях подобного рода применены СВЧ-методы диагностики плазмы. Установлено, что измеренная скорость нарастания плотности плазмы сравнима со скоростью нарастания плотности при ионизации электронным ударом. PACS: 52.25.-b, 52.80.Wg
Скибенко Е.И., Юферов В.Б., Буравилов И.В., Пономарев А.Н. Измерение плотности плазмы в пространственно распределенном электрическом разряде в жидкой среде // ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 9, Стр. 133

Проведено двумерное моделирование распространения плазмы за счет размножения электронов малой фоновой плотности. Расчеты показывают, что скорость продвижения волны увеличивается по мере приближения к противоположному электроду. Приведены зависимости времени прохождения волны размножения между пластинами конденсатора от напряженности поля для гелия, азота и ксенона. Оценки показывают, что недавно обнаруженный факт более раннего появления пика тока пучка в газе по сравнению с вакуумом может быть обусловлен фоновой ионизацией в предымпульсе и быстрым распространением волны размножения электронов фона. PACS: 52.80.Tn
Гундиенков В.А., Яковленко С.И. Моделирование времени прохождения разрядного промежутка волной размножения электронов фона // ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 9, Стр. 130

Приведены экспериментальные данные по исследованию спектральной области возбуждения автоколебаний и закономерности изменения параметров в зависимости от спектра и мощности падающего ИК-излучения в образцах кремния, легированного марганцем с удельным сопротивлением rho=103-105 Omega·cm p-типа проводимости при T=300 K. PACS: 72.80.Cw, 81.05.Cy
Бахадырханов М.К., Зикриллаев Н.Ф., Аюпов К.С., Бобонов Д.Т., Кадырова Ф.А., Ильхомжонов Н. Спектральная область существования автоколебаний тока в кремнии, легированном марганцем // ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 9, Стр. 128

Предложен метод повышения избирательности кристаллоподобных структур (полупроводниковых сверхрешеток, фотонных и фононных кристаллов) фазовой аподизацией. Приведены характеристики, иллюстрирующие эффективность метода. PACS: 81.05.-t
Нелин Е.А. Фазовая аподизация кристаллоподобных структур // ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 8, Стр. 140

Рассмотрим метод получения волокнистых материалов, содержащих слои волокон разной толщины. Мембраны получены из растворов ацетилцеллюлозы и фторопластов в виде чередующихся слоев мелких и крупных волокон. Функционально слой тонких волокон определяет фильтрующие свойства. Слои крупных волокон обеспечивают механическую прочность мембраны. PACS: 82.45.Mp, 89.20.Bb
Шутов А.А., Астахов Е.Ю. Формование волокнистых фильтрующих мембран методом электропрядения // ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 8, Стр. 132