Список научных статей и публикаций

Проанализировано влияние размеров анода и давления газа на возможность реализации различных режимов горения тлеющего разряда с полым катодом (с отрицательным и положительным анодным падением), а также режима с прианодной плазмой и двойным электростатическим слоем. Получены аналитические соотношения для зависимостей напряжений на катодном и двойном слоях от площади анода и давления, согласующиеся с экспериментальными результатами. Получены простые выражения для критических давлений, ниже которых существование того или иного режима горения становится невозможным.
Никулин С.П. Влияние размеров анода на характеристики тлеющего разряда с полым катодом // ЖТФ, 1997, том 67, выпуск 5, Стр. 43

В системе с газонаполненным диодом на основе плазменного катода проведены исследования по генерации и транспортировке сильноточного низкоэнергетичного электронного пучка. При ускоряющем напряжении до 20 kV и давлении 1-5·10-1 Pa в диоде с диаметром затянутого сеткой эмиссионного отверстия 8 cm получен пучок с эмиссионным током 600 A, плотностью до 12 A/cm2 при длительности импульса 30 mus. Пучок транспортируется в отсутствие внешнего магнитного поля на расстояние 20 cm. За счет собственного магнитного поля пучок сжимается и на коллекторе плотность тока достигает 100 A/cm2 при диаметре пучка 3 cm.
Девятков В.Н., Коваль Н.Н., Щанин П.М. Генерация и транспортировка сильноточных низкоэнергетичных электронных пучков в системе с газонаполненным диодом // ЖТФ, 1998, том 68, выпуск 1, Стр. 44

Теоретически исследуются распределения потенциалов в кнудсеновском диоде с поверхностной ионизацией в недокомпенсированном режиме при наличии электронной эмиссии с поверхности коллектора. Разработан метод расчета распределений потенциалов. Показано, что при достаточно сильной эмиссии с коллектора не образуются волнистые распределения потенциалов, а происходит непрерывный переход от распределения с виртуальным анодом к распределению с виртуальным катодом. Особое внимание уделено изучению окрестности точки перехода от одного из этих распределений к другому.
Ситнов В.И., Эндер А.Я. Влияние электронной эмиссии с коллектора на распределение потенциала в кнудсеновском диоде с поверхностной ионизацией в недокомпенсированном режиме // ЖТФ, 1998, том 68, выпуск 4, Стр. 37

С использованием магнитного масс-анализатора и времяпролетного масс-спектрометра исследовано влияние давления и рода остаточного газа на зарядовое распределение ионов в плазме дугового разряда с катодным пятном. Показана возможность получения значительной доли ионов газа в разряде такого типа.
Николаев А.Г., Окс Е.М., Юшков Г.Ю. Влияние остаточного газа на зарядовое распределение ионов в плазме вакуумного дугового разряда // ЖТФ, 1998, том 68, выпуск 9, Стр. 24

Теоретически исследованы дисперсионные свойства поверхностных волн, распространяющихся по азимуту в замагниченных цилиндрических плазменных волноводах. Показана возможность распространения в таких волноводах поверхностных колебаний ионной компоненты.
Гирка И.А., Ковтун П.К. Азимутальные поверхностные волны в замагниченной плазме // ЖТФ, 1998, том 68, выпуск 12, Стр. 25

Рассмотрен электрический разряд между поверхностью жидкости и электродом, расположенным над ней. Второй электрод, подводящий питание от высоковольтного источника, расположен на дне сосуда с жидкостью. Проанализированы условия, которым должен удовлетворять электрический разряд, чтобы обеспечить эффективное инициирование реакций в жидкой фазе. В этих условиях количество активных частиц, генерируемых разрядом, оказывается зависящим от концентрации в жидкости вещества, с которым взаимодействуют активные частицы. Показано, что в случае коронного или искрового разряда реакции могут проходить в слое жидкости толщиной 10--20 mm и для конкретных реакций существует оптимальная величина напряженности электрического поля, при которой энергетические затраты на инициирование реакции будут минимальными.
Пискарев И.М. Выбор условий электрического разряда при генерировании химически активных частиц для разложения примесей в воде // ЖТФ, 1999, том 69, выпуск 1, Стр. 58

Исследовано влияние частоты повторения импульсов (0.1-103 s-1) и среднего тока разряда (0-1 A) на время запаздывания пробоя и напряжение горения тлеющего разряда низкого давления (p
Гаврилов Н.В., Романов С.Е. Влияние состояния поверхности катода на характеристики импульсного тлеющего разряда с полым катодом // ЖТФ, 1999, том 69, выпуск 5, Стр. 20

Показано, что многократное отражение ионов от ударного фронта, возникающее в результате учета столкновительной диссипации, способно сформировать ионно-звуковую ударную волну с неограничено большим числом Маха. При экспоненциально малом числе отраженных ионов ионно-звуковая ударная волна "вырождается" в бесстолкновительную квазиударную волну. Обсуждается сравнительная роль вязкости и дисперсии звука при различной начальной неизотермичности плазмы.
Смирновский И.Р. Влияние многократных отражений ионов на структуру ионно-звуковой ударной волны // ЖТФ, 1999, том 69, выпуск 12, Стр. 52

Проанализирована возможность получения однородной плазмы в разрядах низкого давления с полым катодом и полым анодом. Показано, что в отличие от разрядов высокого давления, в которых для формирования однородной плазмы необходима равномерная ионизация, в разрядах низкого давления близкий к однородному радиальный плазменный профиль получается при наличии неоднородной ионизации с повышенной вероятностью на периферии системы и пониженной вблизи оси. Показано, что использование магнитных полей может быть фактором, способствующим, а не препятствующим генерации однородной плазмы.
Никулин С.П., Кулешов С.В. Генерация однородной плазмы в тлеющих разрядах низкого давления // ЖТФ, 2000, том 70, выпуск 4, Стр. 18

Исследуется относительное влияние ионов разных знаков заряда на стимуляцию травления кремния в плазменных условиях. Радикалы фтора производятся тлеющим разрядом с градиентом давления. Пучок положительных или отрицательных ионов создается с помощью источника ионов пеннинговского типа. Поток радикалов фтора и пучок ионов совмещаются на поверхности кремния, расположенного в высоковакуумном объеме. Положительные ионы могут быть конвертированы в быстрые нейтральные атомы методом резонансной перезарядки и собственном газе. Показано, что наибольшей каталитической способностью обладают быстрые нейтральные атомы. Каталитическое влияние положительных ионов примерно в два раза ниже. Отрицательные ионы занимают промежуточное положение. Впервые обнаружено, что некоторые виды ионов (например, молекулярный кислород) не ускоряют, а замедляют процесс травления, т. е. ведут себя как ингибиторы.
Павлов С.Н. Влияние знака заряда иона на стимуляцию плазмохимического травления кремния // ЖТФ, 2001, том 71, выпуск 2, Стр. 36