В статье приводится обзор методов контроля очистки полупроводниковых пластин, приводится описание установки контроля на основе метода люминесцентного анализа, на основе полученных результатов определены входной и выходной параметры автоматизированного процесса. The article provides an overview of control methods for cleaning semiconductor wafers, describes the control unit based on the method of fluorescent analysis, on the basis of the results determined the input and output parameters of the automated process.
сборник научных статей по итогам четвертой международной научной конференции. 2019 Издательство: ООО «Конверт»