Исследованы углеродные пленки, нанесенные из смеси водорода и паров гексана при температуре подложки 150-200oC на кремниевые острийные эмиттеры и плоские подложки методом плазмохимического газофазного осаждения. Покрытия, повышающие эффективность эмиссии острийных эмиттеров, и пленки для плоских ...
Исследованы углеродные пленки, нанесенные из смеси водорода и паров гексана при температуре подложки 150-200oC на кремниевые острийные эмиттеры и плоские подложки методом плазмохимического газофазного осаждения. Покрытия, повышающие эффективность эмиссии острийных эмиттеров, и пленки для плоских эмиттеров наносились при различных условиях травления растущей пленки водородной плазмой. Пленки, нанесенные на плоские подложки, и покрытия острийных эмиттеров обладают высокой оптической прозрачностью, низкой электропроводностью, имеют полимероподобную структуру с высокой концентрацией sp2-связей между атомами углерода и различаются электронной структурой, окружением атомов углеродной решетки, микроплотностью и содержанием водорода в пленке.
Виноградов А.Я., Андронов А.Н., Косарев А.И., Абрамов А.С. Плазмохимическое напыление иэмиссионные свойства углеродных пленок, осаждаемых принизкой температуре // ФТП, 2001, том 35, выпуск 6, Стр. 698