Приведены результаты экспериментальных исследований высокочастотного (ВЧ) ионного источника с улучшенным массовым составом пучка. Увеличение содержания протонов в пучке было достигнуто путем увеличения плотности ВЧ мощности в рязряде под антенной и установки вблизи плазменной сетки магнитного фильтра. Дополнительно были приняты меры для предотвращения наблюдавшейся ранее деградации состава пучка вследствие восстановления металлического алюминия на внутренней поверхности керамической разрядной камеры и выделения воды. Для этого камера была покрыта изнутри пластинами из пиролитического нитрида бора. PACS: 52.80.Pi
Иванов А.А., Подыминогин А.А., Шиховцев И.В. Высокочастотный ионный источник с повышенным содержанием протонов в пучке // ЖТФ, 2007, том 77, выпуск 1, Стр. 104

На основе законов сохранения энергии и z-компоненты импульса в волне магнитной самоизоляции (ВМС) в вакуумной передающей линии и в предположении, что все электроны, падающие на анод, имеют одинаковые энергию и угол падения. Найден релятивистский фактор gammam, соответствующий напряжению на внешней границе электронного потока, с учетом потерь энергии в волне-предвестнике. Исследовано влияние этих потерь на основные характеристики ВМС. PACS: 07.57.-c
Беломытцев С.Я., Ким А.А., Кириков А.В., Рыжов В.В. Расчет характеристик волны магнитной самоизоляции в вакуумной передающей линии на основе законов сохранения // ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 11, Стр. 108

Исследована возможность применения атомно-силовой акустической микроскопии (АСАМ) для измерения упругих свойств тонкопленочных покрытий и контроля их толщины в диапазоне от единиц до сотен нанометров. Практический интерес данная методика может иметь при исследовании алмазоподобных покрытий. Главной особенностью предлагаемого подхода является применение \glqq плоских\grqq зондов, обеспечивающих постоянство площади контакта зонда с поверхностью, а следовательно, и контактной жесткости. Применение подобных зондов обусловлено тем, что стандартные зонды с закругленным острием не позволяют количественно интерпретировать экспериментальные данные при исследовании тонкопленочных структур. На основе результатов численного моделирования были получены данные, позволяющие по измеренному с помощью методики АСАМ значению контактной жесткости kcont количественно определять такие параметры, как толщину или индентационный модуль покрытия. PACS: 81.05.-t
Батог Г.С., Батурин А.С., Бормашов В.С., Шешин Е.П. Расчет толщин и упругих свойств тонкопленочных покрытий на основании данных атомно-силовой акустической микроскопии // ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 8, Стр. 123

Представлены результаты экспериментального исследования формирования сфокусированного электронного пучка при отборе электронов из плазмы стационарного разряда с полым катодом в форвакуумной области давлений. На основании измерений энергетического спектра и диаметра электронного пучка, а также параметров и спектров излучения плазмы, возникающей при взаимодействии пучка с газом, сделан вывод о возникновении пучково-плазменного разряда, вызывающего ухудшение условий фокусировки пучка. Минимальная плотность тока в пучке, при которой появляется пучково-плазменный разряд, возрастает как с подъемом ускоряющего напряжения, так и с увеличением давления газа. PACS: 41.75.Fr
Жирков И.С., Бурдовицин В.А., Окс Е.М., Осипов И.В. Особенности формирования узкосфокусированных электронных пучков, генерируемых источником с плазменным катодом в форвакуумном диапазоне давлений // ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 6, Стр. 106

Разработана термоэмиссионная электронно-оптическая система, формирующая прямолинейный или винтовой электронный пучок с параметрами 250 keV/4 A/10 mus с высокой степенью компрессии. В прямолинейном пучке достигается компрессия 4400 и плотность тока 25 kA/cm2. При формировании винтового пучка электроны приобретают начальную вращательную скорость вокруг оси системы (приосевой пучок) в поперечном магнитном поле кикера. Затем их питч-фактор увеличивается до рабочего значения в адиабатически нарастающем магнитном поле. В предварительных экспериментах при использовании такого винтового пучка в гиротроне с большой орбитой получена генерация на 2-й циклотронной гармонике на частоте 223 GHz.
Братман В.Л., Калынов Ю.К., Мануилов В.Н., Самсонов С.В. Электронно-оптическая система гиротрона с большой орбитой // ЖТФ, 2005, том 75, выпуск 12, Стр. 76

При использовании рядов атомов в слое кристалла в качестве фокусирующих элементов для фокусировки пучка от электронного микроскопа на выходе из кристалла получается распределение интенсивности, представляющее собой решетку тонких пиков диаметром порядка 0.03 и 0.04 nm на расстоянии первой фурье-плоскости. Приведены результаты моделирования схемы микроскопии со сканированием образца такой решетки, при котором из детектируемого сигнала восстанавливается функция прохождения образца. Качество восстановления зависит от вида и величины искажений, обусловленных различными факторами. Некоторые из них были промоделированы, а именно: случайный шум, который вносится в регистрируемый сигнал в ходе эксперимента, и неточности знаний о падающей на образец волне, связанные с неточностью знаний о ширине первичного электронного пучка, падающего на фокусирующий кристалл. Выявлены диапазоны величин искажений позволяющих с допустимым качеством визуализировать образец.
Резикян А.Г., Смирнов В.В. Возможности реконструкции образа при сканировании решеткой фокусов атомных линз от электронного пучка // ЖТФ, 2005, том 75, выпуск 10, Стр. 99

Продемонстрирована возможность дополнительной ионизации ионов тугоплавких металлов плазмы вакуумной дуги, инжектируемой в магнитную ловушку, за счет дополнительного нагрева электронов СВЧ излучением в условиях электронно-циклоронного резонанса. Использование в экспериментах мощного коротковолнового электромагнитного излучения гиротронов позволило работать с большой (порядка 1013 cm-3) концентрацией плазмы и обеспечить параметр удержания на уровне 3·108 cm-3·s при достаточной для многократной ионизации температуре электронов.
Водопьянов А.В., Голубев С.В., Мансфельд Д.А., Николаев А.Г., Окс Е.М., Разин С.В., Савкин К.П., Юшков Г.Ю. Генерация многозарядных ионов тугоплавких металлов в электронно-циклотронном резонансном разряде в прямой магнитной ловушке // ЖТФ, 2005, том 75, выпуск 9, Стр. 101

Рассмотрен авторезонансный механизм ускорения релятивистских электронов комбинированным лазерным гауссовым излучением, составленным из излучения низшей и первой мод. Показано, что ускорение комбинированным излучением является более эффективным, чем ускорение излучением низшей моды или гауссовым пучком первой моды.
Милантьев В.П., Степина С.П. Повышение эффективности авторезонансного ускорения электронов в поле лазерного гауссова излучения // ЖТФ, 2005, том 75, выпуск 9, Стр. 95

С помощью кинетического уравнения для параксиального релятивистского электронного пучка, распространяющегося в плотных и разреженных газоплазменных средах продольно внешнему магнитному полю, получены уравнения переноса массы, импульса и энергии частиц поперечного сегмента пучка. Найдено вириальное уравнение, а также сформулировано условие динамического равновесия, обобщающее для рассматриваемых случаев известное условие Беннета.
Колесников Е.К., Мануйлов А.С. Уравнения переноса и условие динамического равновесия релятивистского электронного пучка, распространяющегося в плотных и разреженных газоплазменных средах продольно внешнему магнитному полю // ЖТФ, 2005, том 75, выпуск 7, Стр. 119

Рассматриваются особенности группировки, ускорения и поперечной фокусировки интенсивных ионных пучков в линейном ондуляторном ускорителе (ЛОУ). Особенностью данного типа ускорителя является отсутствие в системе синхронной с пучком пространственной гармоники ВЧ поля. В гладком приближении получено трехмерное уравнение движения в гамильтоновой форме, сформулированы в общем виде условия ускорения и поперечной фокусировки ионных пучков в ЛОУ. Основные результаты аналитического исследования сравниваются с результатами численного моделирования динамики пучка в полигармоническом поле ускоряющего резонатора.
Масунов Э.С., Полозов С.М. Ускорение и фокусировка интенсивных ионных пучков в высокочастотных структурах с использованием ондуляторов // ЖТФ, 2005, том 75, выпуск 7, Стр. 112