Исследовались тонкие слои ультрадисперсного алмаза (УДА), осажденные из водной суспензии, методами оптической и рентгеновской фотоэлектронной (РФЭС) спектроскопии. Эффективная ширина запрещенной зоны, определенная по критерию 104 cm-1, для УДА с озонной очисткой составляет 3.5 eV. Широкая бесс...
Исследовались тонкие слои ультрадисперсного алмаза (УДА), осажденные из водной суспензии, методами оптической и рентгеновской фотоэлектронной (РФЭС) спектроскопии. Эффективная ширина запрещенной зоны, определенная по критерию 104 cm-1, для УДА с озонной очисткой составляет 3.5 eV. Широкая бесструктурная полоса фотолюминесценции (380--520 nm) связана с процессом излучательной рекомбинации, идущим через систему непрерывно распределенных энергетических уровней в запрещенной зоне алмазного нанокластера. Оптическое поглощение материала в области 250--1000 nm вызвано поглощением на разупорядоченной поверхности нанокластера, содержащей трехкоординированный углерод. На поверхности кластеров УДА, прошедших кислотную очистку, адсорбированы азотно-кислородные комплексы в виде нитрат-ионов NO3-. Отжиг в атмосфере водорода приводит к десорбции нитрат-ионов с поверхности кластеров. Детально изучена эволюция линий кислорода и азота (O1s и N1s) на РФЭС спектрах при отжиге слоя УДА. Работа была поддержана Российской исследовательской программой "Фуллерены и атомные кластеры" (проект "Пленка-2"), грантом NATO Linkage Grant HTECH LG N 973290 и частично Государственной программой "Физика твердотельных наноструктур" (грант N 99-3014).
Алексенский А.Е., Осипов В.Ю., Вуль А.Я., Бер Б.Я., Смирнов А.Б., Мелехин В.Г., Adriaenssens G.J., Iakoubovskii K. Оптические свойства слоев наноалмазов // ФТТ, 2001, том 43, выпуск 1, Стр. 140