Исследованы фотоэлектрические свойства p+-n-переходов на основе ионно-легированного алюминием 4H-SiC, сформированных в слаболегированных эпитаксиальных слоях n-типа проводимости, выращенных методом газотранспортной эпитаксии. Показано, что такие фотодетекторы удачно сочетают достоинства фотострук...
Исследованы фотоэлектрические свойства p+-n-переходов на основе ионно-легированного алюминием 4H-SiC, сформированных в слаболегированных эпитаксиальных слоях n-типа проводимости, выращенных методом газотранспортной эпитаксии. Показано, что такие фотодетекторы удачно сочетают достоинства фотоструктур, сформированных на основе барьеров Шоттки и эпитаксиальных p-n-переходов. Результаты теоретического расчета спектральных характеристик ионно-легированных фотодетекторов находятся вхорошем согласии с экспериментальными данными. Структуры обладают близкой к 100% эффективностью собирания неравновесных носителей заряда в спектральном диапазоне энергии квантов 3.5--4.25 эВ.
Виолина Г.Н., Калинина Е.В., Холуянов Г.Ф., Онушкин Г.А., Коссов В.Г., Яфаев Р.Р., Халлен А., Константинов А.О. Фотоэлектрические свойства p+-n-переходов на основе 4H-SiC, ионно-легированного алюминием // ФТП, 2002, том 36, выпуск 6, Стр. 746