Исследован процесс кристаллизации аморфных гидрогенизированных пленок кремния при воздействии на них непрерывного излучения аргонового лазера. Анализ возникающей структуры проводился методом комбинационного рассеяния света. Плотность мощности излучения в процессе отжига составляла 1.5--4.5 kW/cm2 при экспозиции 1/125 s. Спектры комбинационного рассеяния регистрировались при плотности мощности, меньшей 0.1 kW/cm2. Показано, что порог плотности мощности возникновения кристаллитов составляет 3.0 kW/cm2. В рамках модели локализации фононов показано, что при плотности мощности 3 kW/cm2 размеры формирующихся в процессе лазерного отжига кристаллитов составляют 40 Angstrem.